荷兰实施半导体设备出口管制新条例，影响ASML与ASM International

荷兰政府于6月30日正式发布了新增的半导体先进设备出口管制条例，该条例自2023年9月1日起生效，主要针对尖端芯片制造技术，如高级沉积设备和浸润式光刻系统。此举旨在保障国家安全，对外贸和发展合作部长Liesje Schreinemacher所述，此举能让受影响的企业提前了解并适应新规则。

1. EUV pellicle及其生产设备：EUV光罩保护膜，属关键消耗品，确保EUV曝光过程中光罩不受污染。荷兰ASML、日本三井化学和韩国S&S Tech为主要供应商。

2. EUV pellicle生产设备

3. 光刻设备：
- 波长小于193nm的EUV光刻机，荷兰早先已在美要求下限制对中国出口。
- 波长大于等于193nm的光刻机，需具备45nm或更小的最小可分辨特征尺寸(MRF)，以及最大专用卡盘覆盖(DCO)值小于或等于1.50nm。

4. 用于金属剥离的ALD设备，特别是用于铝前体和沉积TiAlC，后者用于调节晶体管阈值电压的金属。

5. 用于硅、碳掺杂硅、硅锗或碳掺杂SiGe外延生长的设备，需具备多腔室、高真空或惰性气体环境及预处理室等功能。

6. 设计用于在深宽比≥1:1、宽度＜25nm且介电常数＜3.3的金属线间隔空间内，采用无空穴等离子体增强沉积Low K电介质的设备。

7. 针对上述设备的专用软件（分类为3D007）和相关技术（分类为3E005）也被纳入管制范围。

ASML指出，按照新规定，其最先进的浸润式DUV系统（如TWINSCAN NXT:2000i系列）需要获得荷兰政府的出口许可。尽管EUV光刻系统早已受限，但TWINSCAN NXT:1980系列浸润式光刻系统的出口并未受到管控。

ASM International作为全球领先的半导体晶圆加工设备供应商，特别是在ALD设备市场占有率超过半壁江山，其ALD和外延设备业务可能会受到新出口管制条例的影响。

中国驻荷兰大使馆批评荷兰政府的新出口管制措施，指出其滥用出口管制，违背自由贸易和国际经贸规则，坚决反对这一举措。大使馆强调，荷方借口“国家安全”，人为设置障碍，既缺乏法律和道德依据，也将损害荷兰企业的利益，破坏全球产业链供应链稳定性，并影响荷兰支持自由贸易的形象。大使馆呼吁荷方纠正错误做法，顾全大局。