什么是光刻机_光刻机什么时候发明的

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什么是光刻机？

光刻机是关键设备，用于生产微机电、光电和二极体大规模集成电路。它是制造大规模集成电路的核心设备，需要光学和电子工业基础的高度支持，只有极少数厂家能够掌握这项技术。

在半导体设备制造方面，中国的光刻机是最大的短板之一。国内晶圆厂需要依赖进口高端光刻机，但目前国家正在积极研究和探索，相信不久的将来一定能够自主研发出高端光刻机。

光刻机什么时候发明的？

法国人尼斯福尔·尼普斯于1822年发明了光刻机。在早期阶段，光刻机的功能简单，使用的材料也比较粗糙。通过光照实验，尼普斯发现可以复制油纸上的刻痕。当它出现在玻璃片上后，经过一段时间的日晒，沥青的透光部分会变硬，而不透光部分可以通过松香和植物油清除。

尽管光刻机的发明早于其他行业，但直到第二次世界大战时才应用于印刷电路板。现如今，使用的材料和早期发明时的材料已经有了很大的差别。通过将铜线路制作在塑料板上，电路板得到了普及，成为了众多电子设备领域中最关键的材料之一。

当前，除了光刻机，电路板印刷技术还会使用X射线和荷电粒子刻划等技术。这些技术不仅可以有效降低生产成本，还可以实现电子设备功能的多样性。

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