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中国首台光刻机真的诞生了。最近，在合肥市，一台具有世界领先水平并拥有自主知识产权的无掩膜光刻机问世了。专家组由中国工程院院士张钟华和叶声华等组成，他们在鉴定后认为，芯硕半导体(中国)有限公司的“光刻机”技术填补了国内在该领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平。
中国并没有3纳米的光刻机量产型。目前，上海微电子的90纳米DUV浸润式光刻机已经量产，并且该公司的28纳米DUV浸润式光刻机已经设计定型，正在进行实验阶段，预计将在年内达到量产状态。这款光刻机采用n+1技术，使芯片制程达到了10纳米的精度。然而，需要注意的是，EUV才是高端光刻机，而DUV只是中低端机型。EUV光源使用的是13.5纳米的极紫外光，而DUV光源使用的是193纳米的深紫外光，两者之间存在质的差异。
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