国产光刻胶通过量产验证_国产光刻胶通过量产验证，武汉太紫微公司T150 A分辨率达120nm

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国产光刻胶通过量产验证，武汉太紫微公司T150 A分辨率达120nm

10月15日，武汉东湖新技术开发区传来振奋人心的消息，表明光谷在半导体专用光刻胶技术上取得了显著成就。武汉太紫微光电科技有限公司，简称“太紫微”，成功研发出T150 A光刻胶，经历严格的半导体生产流程验证，实现了配方设计的完全自主，预示着国内半导体光刻技术即将翻开新的篇章。

据中国光谷官方透露，T150 A光刻胶与国际领先企业的KrF光刻胶系列相媲美，超越了所谓的“UV1610”这一行业挑战者。在精细的光刻过程中，它展现出了120纳米的极限分辨率，具备更宽的工艺窗口、卓越的稳定性和优异的烘烤后残留率，特别是在后续刻蚀步骤中，能保持下层材料侧壁的出色垂直度，展现了对复杂图形处理的高兼容性。

公开记录显示，太紫微公司成立于2024年5月，由一支源于华中科技大学武汉光电国家研究中心的精英团队创立。作为公司负责人及英国皇家化学会会员的华中科技大学教授朱明强强调，从基础原材料的研发到拥有自主知识产权的配方技术，这只是第一步。他们团队致力于推出更多适用于不同应用场景的KrF和ArF光刻胶，旨在为中国半导体行业带来持续的创新与突破。

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