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其直径相当于一根发丝的十万分之一，描述的是5纳米这一微小尺度，几乎难以想象。目前，尽管并不存在专门生产5纳米工艺的光刻设备，最先进的极紫外光（EUV）光刻技术，利用13.5纳米的光源，通过复杂的多重曝光过程，已经能够实现5纳米芯片的生产。以直观的比较，一枚芯片的大小接近于一个指甲盖，而在这样的微小空间内，竟可容纳大约15亿个硅晶体管，展现了科技的惊人密度与精细度。
对于中国当前的科技水平而言，制造五纳米光刻机仍是一个挑战。这一技术处于全球尖端领域，相比之下，我国目前的光刻技术主要停留在90纳米级别，这一成就归功于上海微电子公司。他们已成功研发并向28纳米技术迈进，有望在今年年底前推出首台相关设备。然而，在更先进的5纳米、3纳米工艺以及使用极紫外光刻技术（EUV）方面，我国与国际顶尖水平之间尚存在一定的距离。这表明，尽管我们在光刻技术上取得了进步，但在追求极致工艺的道路上，仍需不断努力以缩小与世界领先水平的差距。
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