良品率持续提升 英特尔或已解决18A工艺良品率问题

去年末，英特尔副总裁（负责企业规划与投资者关系）John Pitzer曾表示，Intel 18A工艺的良品率目前正在以每月7%的速度提升，这一速率符合行业对健康技术爬坡节奏的预期。Pitzer同时指出，Panther Lake处理器也遵循了同样的良率提升轨迹，这增强了英特尔对该工艺实现大规模生产的信心。

据TECHPOWERUP报道，经过数月的努力，英特尔似乎已成功解决了早期在Intel 18A工艺上遭遇的良品率挑战。因此，预期良品率将以持续的、可预期的方式继续改善。如果此信息准确，则表明当前的Intel 18A晶圆具备更高的生产一致性，不同批次间的差异减小，从而提升了制造环节的可预测性。然而值得注意的是，这并不代表缺陷密度已降至目标水平、参数良率达到最优，或者整体经济性已完全满足英特尔的要求。这仅仅意味着良品率的持续改善为在可预见的时间内实现量产目标提供了有力支撑。

目前，Intel 18A工艺的生产设施有两处：一处位于美国亚利桑那州的Ocotillo园区（Fab 52），另一处位于俄勒冈州希尔斯伯勒（D1X工厂）。这两座工厂合计的月产能约为3万片晶圆，这对于当前处于提升产能爬坡阶段的生产而言，是一个积极的进展。英特尔已在其希尔斯伯勒的D1X工厂启动了采用改进版工艺Intel 18A-P的风险生产。最终，大规模量产阶段的主要制造活动将转移到Ocotillo园区的Fab 62工厂进行。

**此外值得一提的是未来路线图**，Intel 14A工艺的早期样品已展现出令人鼓舞的良好前景。根据规划，英特尔拟于2029年在俄勒冈州希尔斯伯勒的D1X工厂率先启动Intel 14A的量产工作。其后的第二阶段产能扩张将转移至俄亥俄州Ohio One生产基地的新建晶圆厂，这一阶段的迁移预计将在2030年至2031年期间完成。