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阿斯麦尔公司的euv光刻机售价约为1.5亿欧元，但需要明确的是，该设备并不具备5纳米光刻技术。目前的euv光刻机是第一代设备，其波长为13.5纳米，这一波长决定了euv光刻机的精度。然而，台积电和三星通过技术手段使得该设备能够制造出5nm芯片甚至更高制程。荷兰阿斯麦尔的euv光刻机价格非常昂贵，每台约售价1.5亿欧元。
合肥最近推出了国内首台具有世界领先水平并拥有自主知识产权的无掩膜光刻机。中国工程院院士张钟华和叶声华等专家组成的鉴定组认为，芯硕半导体(中国)有限公司的“光刻机”技术填补了国内在该领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平。
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